鹽霧箱試驗暴露方法與操作條件
發布時間:2020-04-24 瀏覽次數: 次
鹽霧箱的曝露方法,不應將鹽霧箱試板放置在霧粒從噴嘴出來的直線軌跡上。每塊試板的受試表麵朝上,與垂線夾角是20°±5°。(注:曝露於鹽霧箱中的每塊試板的置放角度是很重要的)

當有不一樣樣子的上漆鋼件實驗時,裸露方式由相關層麵商談。開展這類實驗時,非常關鍵的是應將這種不一樣子的構件按其一切正常情況置放。在這裏規定下,構件置放應盡量防止防礙氣旋的流動性。假如構件防礙了氣旋的流動性,別的試板和構件則不可以另外開展實驗。
試板塗層的破壞程度隨放置的方位不同而不同,對此應給予適當的考慮。
鹽霧箱試板的排序應不使其相互之間觸碰或與箱體觸碰,受試表層應裸露在耐腐蝕能無阻攔地地基沉降的地區。
鹽霧箱內的唯有應是(35±2)℃。對總麵積為80㎝2的水準噴霧器搜集設備而言,在很小周期時間為24小時側得的耐腐蝕水溶液的均值搜集速度應是10mL/h~2.5mL/h。搜集到的水溶液的氯化鈉濃度應是(50±10)g/L,pH值應是6.5~7.2。已噴霧器過的實驗水溶液不可多次重複使用。
應開展2次平行測定;按照規定的標準,開展調節。將試板(或構件)排汙在鹽霧箱內。關掉鹽霧箱並使實驗水溶液根據噴頭剛開始流動性。在全部要求實驗周期時間內要持續噴霧器。由於查驗、重新排序或取下試板;定期檢查填補儲槽中的水溶液;及其檢查是不是考慮要求的標準等,而短期內的平時終斷以外。
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